创维半导体设计大厦

01 / BUILDING PROFILE

创维半导体设计大厦楼盘介绍

项目简介 · PROFILE

创维半导体设计大厦位于国家重点支持的五大科技园区之一的深圳市高新技术产业园南区，是深圳创维集团有限公司投资兴建的一项集产品研发、科技展示等综合功能于一体的科技项目工程。大厦占地面积17,025.5平方米，总建筑面积124,533.62平方米，计容建筑面积84,931.04平方米，建筑高度99.8米，分东座、西座及裙楼。东、西座地上24层、地下3层；裙楼连接两座塔楼，地上5层、地下3层。

写字楼大堂高10米，2至5层标准层高4.5米，6至24层标准层高4米，荷载250KG，标准楼层约1,628平方米，使用率70%至80%；商业1层层高5.7米，2至5层层高4.5米，荷载350KG。办公标准楼层柱距8.4米。外墙采用金属铝板及中空玻璃幕墙，隔音隔热性能优异。电梯采用瑞士进口迅达品牌，共23台（垂直升降梯21台，扶梯2台）。东座配置8台垂直升降客梯，载重均为1,350KG；西座配置9台垂直升降客货梯，其中货梯载重2,000KG，其余均为1,350KG；裙楼配置4台垂直升降梯及2台扶手电梯，客梯载重均为1,350KG。

作为创维集团在深圳重要的研发与展示载体，创维半导体设计大厦凭借其高标准硬件配置、科学的空间设计及核心区位优势，成为南山科技园南区具有代表性的企业总部型科技楼宇。